Exquis T4 Pro 全譜直讀光譜儀
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技術(shù)參數(shù)
| 光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格 羅蘭圓全譜充氬型光學(xué)系統(tǒng) |
| 電極 分析間隙 氬氣流量 | 鎢材噴射電極 4mm 激發(fā)流量約3.5L/min，待機(jī)流量約0.1L/min |
| 光源類型 | 數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS） 100-1000HZ |
| 探測器 其他功能 | 高性能CMOS陣列（4096像素） 光室溫度，軟件自動控制壓力，通訊監(jiān)測 |
| 可檢測基 檢測時(shí)間體 | Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn、Ag等 依據(jù)樣品類型而定，一般20S左右 |
| 工作電源 | AC220V 50/60Hz |
| 主機(jī)尺寸 | 530*660*350mm 約47Kg |
光學(xué)系統(tǒng)
激發(fā)臺
激發(fā)光源
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) 
電源功耗
尺寸與重量儀器特點(diǎn)
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| 采用了先進(jìn)的光室密封循環(huán)充氬技術(shù)，有效隔絕外界干擾，確保分析過程在純凈、穩(wěn)定的環(huán)境中進(jìn)行。 | ||
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配備低噪聲的4096像素CMOS檢測器，實(shí)現(xiàn)了對Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Mg、Ti、Pb、Sn等金屬基體及非金屬 元素（N,C,S,P,B,As）的全譜分析。 其卓越的紫外響應(yīng)靈敏度，無需額外鍍膜即可直接分析非金屬元素。 | ||
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擁有專利的全數(shù)字高穩(wěn)定性激發(fā)光源，頻率最高可達(dá)1000Hz，能夠根據(jù)不同材質(zhì)自動匹配最佳激發(fā)條件，確保 每次分析都能獲得最優(yōu)結(jié)果。 | ||
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| 采用全新的整體恒溫屏蔽技術(shù)，將溫度控制精度提升至±0.1℃，確保光學(xué)系統(tǒng)在穩(wěn)定、均勻的溫度環(huán)境中工作。 | ||
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| 創(chuàng)新的智能全覆蓋加熱及保溫技術(shù)使得冷機(jī)啟動時(shí)間大幅縮短至30分鐘，提高了整體運(yùn)營效率。 | ||
 曲線智能跳轉(zhuǎn)技術(shù) | ||
創(chuàng)新的曲線智能跳轉(zhuǎn)技術(shù)使得Exquis T4 Pro能夠根據(jù)樣品的分析值在后臺智能選擇最佳分析譜線，進(jìn)一步提高了分析結(jié)果的準(zhǔn)確性和精度，分析結(jié)果自動判斷產(chǎn)品牌號。 |
光室密封循環(huán)充氬技術(shù)
